半導體制冷冷水機的核心是 “半導體制冷模塊(TEC)+ 水循環系統 + 智能溫控系統" 的協同工作,各部分功能如下:
負責將 TEC 制冷端產生的冷量傳遞給負載,并將散熱端的熱量導出,由以下部件組成:
冷水箱:存儲循環介質(去離子水或防凍液,防止結垢和低溫凍結),容積根據負載流量需求設計(通常 1-10L);
微型水泵:提供穩定流量(0.5-5L/min),需低噪音、無脈動(如磁力驅動泵,避免介質泄漏);
管路與接頭:采用耐腐蝕材料(如 PTFE、316 不銹鋼),減少流阻和熱損失;
散熱系統:TEC 散熱端需高效散熱(否則會降低制冷效率甚至燒毀模塊),常用方案:
實現精準溫度調節(精度可達 ±0.1℃),核心組件包括:
溫度傳感器:貼附于負載或循環水路,常用 PT100(精度 ±0.1℃)或 NTC(成本低,適合民用場景);
PID 控制器:根據傳感器反饋實時調節 TEC 電流(如通過 PWM 信號控制驅動電源),抑制溫度波動;
人機交互界面:觸摸屏或按鍵,可設置目標溫度(通常 5-35℃,低溫型可達 - 10℃)、報警閾值(如超溫、斷流)。
半導體制冷的能效比(COP = 制冷量 / 輸入功率)較低(通常 0.3-0.8,遠低于壓縮機制冷的 2-4),需通過以下設計提升效率:
減小溫差:控制 TEC 制冷端與負載的溫差(≤5℃)、散熱端與環境的溫差(≤10℃),可通過高導熱材料(如銅塊、石墨烯墊片)減少接觸熱阻;
分級制冷:大功率場景采用多 TEC 模塊并聯(如 4 個 100W 模塊組成 400W 系統),并匹配獨立散熱通道,避免局部過熱;
自適應功率調節:通過 PID 動態調整 TEC 電流(而非滿功率運行),在負載熱波動時(如半導體設備間歇工作)減少能耗。
當制冷溫度低于環境露點時,水路或負載表面易結露(導致短路或腐蝕),需設計:
露點監測:在循環水路加裝濕度傳感器,當接近露點時自動提高目標溫度(如從 10℃升至 15℃);
保溫與加熱:管路外包覆保溫棉(如橡塑海綿),關鍵部位(如接頭)內置微型加熱片,防止局部結露;
低溫防凍:環境溫度<0℃時,自動啟動加熱模式(TEC 反向制熱),或使用防凍液(如乙二醇溶液,濃度 30% 可耐 - 15℃)。
過流 / 過溫保護:TEC 長期滿功率運行易老化,需設置電流上限(如額定電流 1.2 倍)和散熱端溫度閾值(如>60℃停機);
水路冗余:重要場景(如半導體晶圓測試)采用雙水泵備份,斷流時自動切換;
抗干擾:溫控信號與 TEC 驅動電路隔離(如光電耦合),避免電磁干擾(EMI)影響負載(如精密傳感器)。